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华海清科:CMP设备龙头,平台化战略扬帆起航

来源:浙商证券 作者:蒋高振 2022-09-08 00:00:00
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公司是国内CMP(化学机械抛光)设备龙头企业,CMP设备市场小而美,海外企业寡头垄断,随着国内本土晶圆产能持续扩张,国内CMP设备需求将持续旺盛,公司正引领CMP设备国产化进入1→10的放量阶段。此外,公司立足CMP设备,切入减薄设备、供液系统、晶圆再生等新领域,多维增长曲线将持续推动公司业绩快速成长,半导体设备平台型公司雏形已显。国内CMP设备龙头,业绩/新签订单规模快速成长。公司专注研发CMP设备近十年,推出了国内首台拥有核心自主知识产权的12英寸CMP设备并实现量产,也是目前国内唯一提供12英寸CMP商业机型的高端设备制造商。公司收入规模快速成长,2017-2021年公司营收由0.19亿元快速增长至8.05亿元,2022H1营收达到7.17亿元,同比增长144.27%,呈现快速增长态势。公司已发出未结算商品由2019年1.05亿元快速提升至2022H1的9.40亿元,此外,公司2022H1合同负债高达10.03亿元,较2021年末增长2.24亿元,22H1新签订单金额同比增长133%达20.19亿元,预示未来成长性/确定性兼备。

CMP设备国产化进入1→10放量阶段,国产替代空间仍广阔。CMP设备是晶圆表面平坦化的关键设备,根据SEMI数据,我们推算2021年全球CMP设备市场规模约为22.8亿美元,中国大陆CMP设备市场规模约为6.8亿美元。市场格局方面,全球CMP设备由应用材料(AMAT)、日本荏原(EBARA)两大海外寡头垄断,国内企业除华海清科一家独大之外,烁科精微、众硅科技等企业在8寸CMP设备领域有所布局。我们测算2021年CMP设备国产化率已超过20%,其中大部分为华海清科份额,但参照海外龙头企业在全球市场的份额仍具备较大的提升空间,CMP设备国产化已进入1→10的放量阶段,在国内晶圆厂持续扩产推动下,核心企业将充分受益。CMP+耗材+供液+减薄+晶圆再生,平台化战略扬帆起航。公司CMP设备性能已达到国内领先水平,其中12英寸CMP设备受到广泛认可,已成功进入中芯、长存、华虹、英特尔、长鑫、联芯、粤芯、积塔等国内或者国际主流集成电路制造商在国内的大生产线。CMP设备运动量大、损耗多,需定期更换耗材,耗材业务与市场存量机台的相关系非常高,收入占比也将随公司CMP设备销售逐步提高,是公司未来的第二增长曲线。

此外,公司以自有CMP设备和自主CMP技术为依托,积极布局晶圆减薄设备和晶圆再生领域;公司生产的湿法工艺设备所用研磨液、清洗液等化学品供应需求的供液系统已获得批量订单;而基于公司在湿法工艺、量测技术领域的长期技术积淀,面对客户细分领域的清洗、量测等需求,公司正积极开展新产品研发。公司正逐步突破国内CMP设备龙头的范畴,朝着更广阔的市场前进,设备平台型龙头已扬帆起航。盈利预测与估值公司作为国内CMP设备龙头,在国产化1→10放量阶段下,将优享设备国产化带来的红利,稳健预计公司未来三年营收分别为18.75/28.79/35.08亿元,同比增长132.95%/53.56%/21.83%;实现归母净利润4.01/6.15/8.02亿元,同比增长102.29%//53.42%/30.28%,对应2022-2024年PE分别为100/65/50倍。风险提示新市场开拓不及预期的风险;关键上游设备、零部件断供风险;市场竞争风险;技术创新风险;政府补助与税收优惠政策变动的风险;疫情管控对公司生产经营不利风险;国际形势恶化风险。





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