基础化工行业:下游加速向国内转移,光刻胶进口替代迎来发展良机

光刻胶是光刻工艺的核心材料,主要应用于PCB、LCD 及半导体行业:光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体,是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,通过曝光其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。作为光刻工艺的关键原材料,光刻胶广泛被应用于PCB、LCD 和半导体集成电路的生产加工过程中。

行业壁垒高筑,外企寡头长期垄断,随着下游向国内转移,进口替代需求强烈:受益于消费电子、LCD 及半导体产业产能向大陆转移,光刻胶化学品进口替代空间大。光刻胶及光刻胶用品因技术含量高导致行业竞争者少,目前主要由日本、欧美、台湾等少数公司垄断,仅有少数大陆企业近年来实现技术突破进入下游的供应体系中。随着下游产能逐渐转移至中国大陆,受益于这种大趋势,中国市场的光刻胶需求将稳步提升,实现进口替代需求迫切。

国内光刻胶技术正在逐步突破:我国光刻胶行业起步较晚,与国外先进光刻胶技术相比,国内产品落后近4代,国内光刻胶市场规模虽然庞大,但大量依赖进口。目前,国家为尽快缩小与世界先进光刻胶技术的差距,跳过中间两代,直接研发0.13-0.10μm 工艺用193nm 光刻胶和电子束光刻胶。北京科华和苏州瑞红作为国内光刻胶行业的龙头企业,在光刻胶研发领域已经取得一定突破。

建议关注具备光刻胶产业化的相关公司:1)强力新材:公司是全球PCB 光刻胶专用化学品主要供应商之一,下游客户包括台湾长兴化学、日本旭化成、日本日立化成等全球知名光刻胶生产商。LCD 和半导体光刻胶正逐渐成为公司新增长点,收购佳英化工涉足上游原材料将有助于公司进一步巩固行业地位。2)永太科技:与TCL 旗下的华星光电签订技术合作协议,合作开展 OLED 与TFT-LCD 用CF 光刻胶的技术研发。1500吨产能利润空间近亿元,目前公司的CF 光刻胶已经进入下游验证,未来将形成订单。3)飞凯材料:自主研发的光刻胶已经投产,目前得到了两家客户的认证,具备较强的市场竞争力。4)南大光电:投资国内光刻胶龙头北京科华。北京科华的248nmKrF 光刻胶是国内唯一一家通过中芯国际认证的国内产品,193nmKrF 光刻胶国内也仅有北京科华立项,北京科华是目前最有可能与国外企业直接竞争并实现进口替代的国内企业。

风险提示:下游应用行业发展不及预期。