[路演]上海新阳业绩说明会：浸没式光刻胶已在国内多家晶圆制造企业开展测试认证工作

（原标题：[路演]上海新阳业绩说明会：浸没式光刻胶已在国内多家晶圆制造企业开展测试认证工作）

4月25日，上海新阳（300236）2023年度网上业绩说明会在全景路演举行。就投资者关于“干法A胶验证到什么阶段了？湿法A胶验证情况能介绍一下吗？”的提问，总经理王溯回复，ArF光刻胶目前出于客户端认证阶段，浸没式光刻胶的研发进展也比较顺利，已在国内多家晶圆制造企业开展测试认证工作，部分型号产品已取得良好的测试结果以及工艺窗口。

2023年，光刻胶产品取得了长足的进展与突破。光刻胶项目研发进展顺利，除了上述ArF光刻胶和浸没式光刻胶以外，I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升，满足客户的工艺需求。目前光刻胶已具备量产能力，在超20家客户端提供样品进行测试验证，报告期内光刻胶产品销量快速增加。报告期内光刻胶系列产品已实现营业收入400余万元。

此外，还有投资者提问：年报提到k胶有多款产品验证，能不能介绍说明一下为什么光刻胶还有这个多不同型号的细分产品？

总经理王溯回复：光刻胶主要功能是图形化，因为芯片产品的种类和复杂程度的提高，需要应用的不同的光刻胶种类来应对的不同的图形化需求。同时，光刻胶还有非常多的功能性需求，所以有很多的种类和类型来应对不同的制程和工艺需求。

董事长王福祥在也说明会中表示，公司研发光刻胶起步较晚，客户端验证时间较长，研发投入较大，能够在短短几年时间内研发成功KrF胶并实现量产是公司近几年取得的较大研发成果。

公开资料显示，上海新阳主营业务为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备、环保型、功能性涂料的研发、生产、销售和服务。主要产品包括大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂、铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、无铅纯锡电镀液及添加剂、去毛刺溶液、逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶、存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶、底部抗反射膜(BARC)。（全景网）

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