兴福电子获得发明专利授权：“一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液”，专利申请号为CN202311464107.7，授权日为2026年9月8日。

专利摘要：本发明提供了一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液，按质量百分数计，包括72%?85%的电子级磷酸、1.25%?1.75%的含硅化合物、0.0263%?0.0369%的氢氟酸、0.02%?0.07%的磺酸类物质、0.1%?1.0%的钨蚀刻抑制剂，其余成分为去离子水。本发明所述的蚀刻液能够在氧化硅蚀刻速率（ER）≤0.96nm/30min的前提下，较快的蚀刻氮化硅，最大程度抑制金属钨的蚀刻，保证氮化硅和金属钨具有较高的选择比。

今年以来兴福电子新获得专利授权62个，较去年同期增加了113.79%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4218.31万元，同比增7.51%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目263次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息549条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可290个。

数据来源：天眼查APP

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