晶合集成获得实用新型专利授权：“离子源和离子植入机”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“离子源和离子植入机”，专利申请号为CN202522130220.2，授权日为2026年9月4日。

专利摘要：本实用新型提供了一种离子源和离子植入机，该离子源包括起弧室、阴极单元、反射单元和气体通入单元；阴极单元设置于起弧室的一侧，反射单元设置于起弧室的另一侧，且阴极单元的至少一部分以及反射单元的至少一部分均位于起弧室的腔体内；气体通入单元包括进气管道和旋转导流器，旋转导流器上设有切向进气口，进气管道与切向进气口相连通，旋转导流器的出气口与起弧室的进气口相连通。本实用新型可以在增加解离效率的同时有效减少因气体与起弧室的腔体内壁以及起弧室的腔体内的工艺组件接触时间过长而导致的固体残留，从而不仅可以有效减少离子源的维护或更换的频次，有效降低生产成本，并且可以提高机台的WPH值。

今年以来晶合集成新获得专利授权377个，较去年同期增加了42.8%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.09亿元，同比减12.32%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目648次；财产线索方面有商标信息76条，专利信息1805条，著作权信息12条；此外企业还拥有行政许可35个。

数据来源：天眼查APP

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