晶合集成获得实用新型专利授权：“自清洁循环酸槽装置及半导体清洗设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“自清洁循环酸槽装置及半导体清洗设备”，专利申请号为CN202521521510.3，授权日为2026年7月21日。

专利摘要：本申请涉及一种自清洁循环酸槽装置及半导体清洗设备，装置包括：循环酸槽，用于清洗样品；缓存装置，包括用于收集循环酸槽排放酸液的进液端，以及输送缓存装置内酸液的排液端；清洁装置，经排液端与缓存装置连接，用于按预设轨迹控制冲洗喷头喷洒来自缓存装置的酸液，以清洗循环酸槽；预设轨迹关联于循环酸槽的形状；控制器，与循环酸槽、缓存装置以及清洁装置均相连，用于在达到预设换液条件时，控制循环酸槽、缓存装置与清洁装置执行对应动作。打破旧有废液直接排放的方式，利用旧液喷洗的过程，避免了水洗对于浓度的影响以及新化学药液的浪费。

今年以来晶合集成新获得专利授权329个，较去年同期增加了43.04%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了14.53亿元，同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目650次；财产线索方面有商标信息76条，专利信息1764条，著作权信息12条；此外企业还拥有行政许可29个。

数据来源：天眼查APP

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