思特威获得发明专利授权：“像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示思特威（688213）新获得一项发明专利授权，专利名为“像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构”，专利申请号为CN202111092729.2，授权日为2026年7月3日。

专利摘要：本发明提供一种像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构，像素结构包括：衬底；光电转换区，位于衬底中；电荷收集区，布置于衬底中；第一导流结构，自衬底的第一面朝第二面延伸至衬底内部，所述电荷收集区及所述光电转换区设置于所述第一导流结构同侧；第二导流结构，设置于衬底的第一面，与第一导流结构连接且延伸至电荷收集区；电隔离层，设置于第一导流结构、第二导流结构与衬底之间的界面。本发明可使光电转换区获得更高的满阱容量及光电转换区感度的同时可以更好的兼容紧凑的共享像素布局结构。

今年以来思特威新获得专利授权61个，较去年同期增加了12.96%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了6.18亿元，同比增38.16%。

通过天眼查大数据分析，思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目8次；财产线索方面有商标信息283条，专利信息686条，著作权信息19条；此外企业还拥有行政许可29个。

数据来源：天眼查APP

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