兴福电子获得发明专利授权：“硅锗/硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“硅锗/硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液”，专利申请号为CN202410967984.4，授权日为2026年6月26日。

专利摘要：本发明提供一种硅锗/硅叠层中硅的高性能选择性蚀刻液，该蚀刻液包括氢氧化季铵、链烷醇胺、SiGe抑制剂和水。本发明提供的高性能、高选择比的蚀刻组合物，能够在高效维持蚀刻硅的同时，对硅锗有防蚀效果，硅/硅锗选择比＞20；当呋喃环类化合物与多胺类化合物按一定比例联用时，硅/硅锗选择比高达345。

今年以来兴福电子新获得专利授权29个，较去年同期增加了52.63%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了9291.33万元，同比增20.79%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目237次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息541条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可287个。

数据来源：天眼查APP

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