XD兴福电获得发明专利授权：“一种选择性蚀刻液”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示XD兴福电（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种选择性蚀刻液”，专利申请号为CN202311180642.X，授权日为2026年6月12日。

专利摘要：本发明公开了一种选择性蚀刻液，其主要成分包括磷酸、氟离子源、含羟基有机物、抑制剂和水组成。选择性蚀刻液中的含羟基有机物的结构中含有三氟甲基或硝基的强吸电子基团，有助于提高羟基与氧化硅层表面硅羟基键以及氧化铝层表面铝羟基键进行结合，以降低氧化硅层和氧化铝层的蚀刻速率。选择性蚀刻液中的抑制剂能够协同含羟基有机物一起在氧化铝层表面形成吸附层，降低氧化铝层的蚀刻速率，进一步提高氮化硅和氧化铝的蚀刻选择比。

今年以来XD兴福电新获得专利授权21个，较去年同期增加了16.67%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了9291.33万元，同比增20.79%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目236次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息540条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可287个。

数据来源：天眼查APP

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