有研硅获得发明专利授权：“一种高品质SOI用硅衬底抛光片的加工方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示有研硅（688432）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种高品质SOI用硅衬底抛光片的加工方法”，专利申请号为CN202510974564.3，授权日为2026年5月29日。

专利摘要：本发明公开了一种高品质SOI用硅衬底抛光片的加工方法，包括以下步骤：（1）将单晶硅衬底片固定于圆形吸盘上，衬底片圆心与吸盘圆心重合，吸盘以100?500rpm的转速携带硅片旋转，此时向衬底片圆心处注入0.3?8mL液体蜡，吸盘及衬底片持续旋转1?10s，液体蜡在离心力的作用下，涂覆在衬底片背表面；然后将吸盘转速升到1000?2500rpm，持续旋转1?10s；（2）将吸盘转速降低至800?1500rpm，此时，向距离衬底片边缘1?3mm的区域喷射有机溶剂，喷射速度为1?8m/s，持续时间为0.1?10s，喷射流与硅片的夹角为30°?60°；（3）经热源烘烤后，粘贴在有蜡抛光专用工装夹具上，进行有蜡抛光。根据本发明的方法可以制造出具有特殊“凹”状形貌的硅衬底抛光片。

今年以来有研硅新获得专利授权3个。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了9241.43万元，同比增18.05%。

通过天眼查大数据分析，有研半导体硅材料股份公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目66次；财产线索方面有专利信息352条；此外企业还拥有行政许可74个。

数据来源：天眼查APP

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