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晶合集成获得发明专利授权:“一种半导体器件及其制作方法”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种半导体器件及其制作方法”,专利申请号为CN202610250050.8,授权日为2026年5月26日。

专利摘要:本发明公开一种半导体器件及其制作方法,属于半导体技术领域。半导体器件包括:半导体基板;浅沟槽隔离结构,设置在半导体基板内并划分出有源区域;阱区设置在有源区域的半导体基板内;栅极绝缘层设置在阱区上;栅极电极设置在栅极绝缘层上;源极区域和漏极区域,分别设置在栅极电极的两侧的阱区内;源轻掺杂区和漏轻掺杂区,在栅极电极的下部被阱区分隔开,以预定的重叠长度分别与栅极电极重叠;从浅沟槽隔离结构边界起,在有源区域的预定宽度区域内,栅极电极和漏轻掺杂具有第一重叠长度,其余区域,栅极电极和漏轻掺杂具有第二重叠长度,第一重叠长度小于第二重叠长度。通过本发明,能够在确保导通电流的同时降低栅极感应漏极漏电流。

今年以来晶合集成新获得专利授权218个,较去年同期增加了45.33%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了14.53亿元,同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了12家企业,参与招投标项目644次;财产线索方面有商标信息75条,专利信息1665条,著作权信息12条;此外企业还拥有行政许可26个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,不构成投资建议。

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