盛美上海获得发明专利授权：“基板刻蚀方法及装置”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“基板刻蚀方法及装置”，专利申请号为CN202310424800.5，授权日为2026年5月12日。

专利摘要：本发明揭示了一种基板刻蚀方法及装置。基板刻蚀方法包括将基板浸入容纳有刻蚀溶液的处理槽中，通过刻蚀溶液对基板进行湿法刻蚀，基板表面形成有深结构；基于脉冲信号向刻蚀溶液中提供气体，用以在刻蚀溶液中产生气泡，脉冲信号的一个脉冲时间包括供气时段和间歇时段，间歇时段取决于供气时段结束后深结构中关键组分达到扩散平衡所需的扩散时间。

今年以来盛美上海新获得专利授权14个，较去年同期增加了250%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了10.03亿元，同比增37.64%。

通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目177次；财产线索方面有商标信息39条，专利信息698条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可32个。

数据来源：天眼查APP

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