晶合集成获得发明专利授权：“环绕式栅极晶体管及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“环绕式栅极晶体管及其制备方法”，专利申请号为CN202610091098.9，授权日为2026年4月17日。

专利摘要：本申请提供了一种环绕式栅极晶体管及其制备方法，属于半导体领域。该制备方法包括：提供衬底，于衬底内形成第一阱区；于第一阱区上形成隔离层；对隔离层进行图案化处理，露出部分第一阱区，作为漏极制备区；并在漏极制备区形成漏极；于漏极表面形成氧化层，氧化层周围具有与漏极相连的第二阱区制备区；于第二阱区制备区形成包围氧化层的第二阱区，且第二阱区与漏极接触；形成位于隔离层上的栅极结构，栅极结构包括栅极和栅绝缘层，栅绝缘层环绕第二阱区；栅极环绕栅绝缘层；形成绝缘层，绝缘层覆盖栅极结构和第二阱区；将氧化层顶部的第二阱区转换为源极。通过该制备工艺可以制备得到具有环绕式栅极的晶体管，提升栅极对导电沟道的控制能力。

今年以来晶合集成新获得专利授权155个，较去年同期增加了63.16%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了14.53亿元，同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目644次；财产线索方面有商标信息75条，专利信息1610条，著作权信息9条；此外企业还拥有行政许可26个。

数据来源：天眼查APP

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