奥比中光获得发明专利授权：“一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法”，专利申请号为CN202310116424.3，授权日为2026年4月10日。

专利摘要：本申请公开了一种消除多路径误差的ITOF测距系统及方法，包括：发射器，用于向目标场景交替发射泛光光束和斑点图案光束；接收器，用于接收目标反射回的泛光光束并生成第一电信号，以及接收被目标反射回的斑点图案光束并生成第二电信号；控制与处理器，用于处理第一电信号生成第一Rawphase图，处理第二电信号生成第二Rawphase图，并处理第一Rawphase图和第二Rawphase图以获得消除多路径干扰的稠密深度图。本申请中通过利用发射不同模式的探测光束，以定量的确定多路径误差引起的偏差量，并对多路径误差的偏差量进行消除以获得更为精准的稠密深度图像，提高ITOF测距系统的准确性。

今年以来奥比中光新获得专利授权33个，较去年同期增加了32%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了9118.07万元，同比减14.02%。

通过天眼查大数据分析，奥比中光科技集团股份有限公司共对外投资了22家企业，参与招投标项目135次；财产线索方面有商标信息135条，专利信息1212条，著作权信息58条；此外企业还拥有行政许可54个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。