兴福电子获得发明专利授权：“一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用”，专利申请号为CN202311180644.9，授权日为2026年3月24日。

专利摘要：本发明公开了一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用，该蚀刻液主要成分为氢氟酸、氟化铵、有机酸、表面活性剂以及超纯水。本发明的蚀刻液用于氧化硅薄膜的蚀刻，并可抑制铝层蚀刻；有机酸可加快氧化硅蚀刻速率，并形成有机酸?铝膜保护铝表面不被进一步蚀刻；表面活性剂可与铝表面的氧化铝反应产生化学吸附，从而抑制铝表面的腐蚀；本发明所述的蚀刻液对氧化硅层和铝层具有高选择性，蚀刻速率选择比≥37。本发明所述的蚀刻液可调整各组分含量，以满足不同制程中的氧化硅层对铝层的蚀刻选择比要求。

今年以来兴福电子新获得专利授权4个，较去年同期减少了33.33%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了3923.73万元，同比增38.91%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目193次；财产线索方面有商标信息7条，专利信息459条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可287个。

数据来源：天眼查APP

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