晶合集成获得发明专利授权：“用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法”，专利申请号为CN202511832724.7，授权日为2026年2月27日。

专利摘要：本申请公开了一种用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法。其中，该用于监控掩模版三维效应的对准标记包括：至少一个标识单元；其中，所述标识单元包括多组标识棒对；所述多组标识棒对沿其对应的标识单元的扫描轴间隔排列，相邻组的标识棒对之间沿所述扫描轴具有一间距；每组标识棒对中的两个标识棒沿所述扫描轴的两侧对称分布，并且两个标识棒之间形成一夹角。本申请通过采用所提供的对准标记，可以有效监控掩模版的三维效应，检测实际图形区域的实际偏差数值。基于监控到的三维效应的数据，进而可以对偏差进行修正，从而提高光刻工艺的良率和可靠性。

今年以来晶合集成新获得专利授权92个，较去年同期增加了196.77%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了6.95亿元，同比增13.13%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目637次；财产线索方面有商标信息75条，专利信息1657条，著作权信息9条；此外企业还拥有行政许可22个。

数据来源：天眼查APP

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