*ST华微获得发明专利授权：“光刻版框架及其制造方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示*ST华微（600360）新获得一项发明专利授权，专利名为“光刻版框架及其制造方法”，专利申请号为CN202211072477.1，授权日为2026年2月24日。

专利摘要：本申请提供一种光刻版框架及光刻版框架制造方法，涉及半导体制造技术领域。本发明基于不同光刻机的不同视场，引入子框架单元概念，根据各个不同的光刻机视场分别在横向和纵向可排布的芯粒数量的最大公约数确定最小框架单元的尺寸，再将子框架单元通过在横向和纵向平移复制的方式得到最终的光刻版框架。如此，可以在不牺牲光刻机使用的最大曝光视场的前提下，通过光刻版框架的优化，实现高自由度的不同视场光刻机之间的匹配使用。不同视场光刻机匹配使用过程中不需要进行复杂的计算，按照各自的框架进行程序编辑即可，进而使得本申请的光刻版框架的实用性更强，可以跨多个曝光视场匹配使用光刻机，使得光刻机产能利用率能够得到有效的提升。

今年以来*ST华微新获得专利授权6个，较去年同期减少了25%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了7575.15万元，同比增25.28%。

通过天眼查大数据分析，吉林华微电子股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目76次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息279条，著作权信息6条；此外企业还拥有行政许可21个。

数据来源：天眼查APP

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