晶合集成获得发明专利授权：“一种光学邻近效应修正优化方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光学邻近效应修正优化方法”，专利申请号为CN202511544772.6，授权日为2026年2月3日。

专利摘要：本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法，包括以下步骤：提供一初始版图，将所述初始版图划分为若干个小区块，所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域，每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠；对每个所述小区块OPC修正和模拟验证，并在模拟验证图形中在相邻两个所述小区块之间的重叠区域出现问题图形和若干个疑似凶手图形；从所有所述疑似凶手图形中找出造成所述问题图形出现的目标凶手图形；优化所有所述小区块中的目标凶手图形，以得到中间版图；对所述中间版图进行OPC修正，以大大降低小区域边缘处的EPE，解决了OPC修正的验证结果不收敛的问题。

今年以来晶合集成新获得专利授权47个，较去年同期增加了291.67%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了6.95亿元，同比增13.13%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目636次；财产线索方面有商标信息75条，专利信息1599条，著作权信息9条；此外企业还拥有行政许可22个。

数据来源：天眼查APP

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