安洁科技获得发明专利授权：“一种模切FDC铜箔的排废方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示安洁科技（002635）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种模切FDC铜箔的排废方法”，专利申请号为CN202310345819.0，授权日为2026年1月30日。

专利摘要：本发明提供了一种模切FDC铜箔的排废方法，其使得在成型铜箔的下方区域设置有离型膜，使得铜箔和过程保护膜的剥离力变小，从而使得模切后的铜箔废料在排废时稳定可靠排废。根据产品铜箔的形态，在模切铜箔前，在铜箔和底部保护膜之间设置离型膜，离型膜完全覆盖住铜箔形态，且向外扩展一设定距离，待模切形成废料的铜箔的大部分面域仍旧覆盖于底部保护膜上，通过铜箔刀模向下冲切完成对于铜箔的冲切，之后通过保护膜将铜箔废料排废。

今年以来安洁科技新获得专利授权4个，较去年同期减少了55.56%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了1.82亿元，同比减17.63%。

通过天眼查大数据分析，苏州安洁科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目61次；财产线索方面有商标信息52条，专利信息886条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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