中微公司获得实用新型专利授权：“一种隔离结构及化学气相沉积装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种隔离结构及化学气相沉积装置”，专利申请号为CN202520123428.9，授权日为2026年1月9日。

专利摘要：本实用新型提供了一种隔离结构及化学气相沉积装置，其中所述隔离结构设置于气相沉积装置的反应腔内，所述反应腔内设有加热装置，其包括：第一环形罩，其包含用于容纳所述加热装置的第一空间；第二环形罩，其套设在第一环形罩上；所述第二环形罩的环宽大于所述第一环形罩的环宽，使所述第一环形罩和所述第二环形罩之间形成空腔。所述隔离结构阻断了反应腔内的反应气体的流动路径，减少了反应气体对射频感应线圈和反应腔底壁的腐蚀；同时隔绝了晶圆托盘对射频感应线圈的辐射散热，进而减弱了热辐射对射频感应线圈的温度影响，有利于提高薄膜沉积的均匀性。

今年以来中微公司新获得专利授权15个，较去年同期增加了50%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目75次；财产线索方面有商标信息108条，专利信息1644条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可77个。

数据来源：天眼查APP

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