华映科技获得发明专利授权：“一种避免上下两层电极短接的阵列基板的制造方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示华映科技（000536）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种避免上下两层电极短接的阵列基板的制造方法”，专利申请号为CN202310228565.4，授权日为2026年1月9日。

专利摘要：一种避免上下两层电极短接的阵列基板的制造方法，包括：在玻璃基板上形成TFT器件，TFT器件中的绝缘层均采用SiOx，并在TFT器件上方形成相应的有机平坦层，有机平坦层上形成第一绝缘层；在第一绝缘层上图案化出公共电极层；在所述公共电极层上采用PECVD方式沉积一层第二绝缘层SiOx作为像素电容膜层；在所述第二绝缘块通上采用PVD方式沉积一层透明电极ITO层，其厚度在100～200A之间。本发明在第二绝缘层即像素电容膜层成膜后沉积一层薄薄的透明ITO，用于阻挡因光阻气泡破洞渗入的干蚀刻气体，就可避免因光阻气泡而造成的制程不良，从而提高产品良率，增加产品效益。

今年以来华映科技新获得专利授权4个，较去年同期增加了300%。结合公司2025年中报财务数据，2025上半年公司在研发方面投入了7365.75万元，同比减2.84%。

通过天眼查大数据分析，华映科技（集团）股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目733次；财产线索方面有商标信息22条，专利信息640条；此外企业还拥有行政许可11个。

数据来源：天眼查APP

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