京东方Ａ获得发明专利授权：“一种阵列基板及其制备方法、显示装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种阵列基板及其制备方法、显示装置”，专利申请号为CN202180004002.6，授权日为2025年10月28日。

专利摘要：本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域。其中，阵列基板，包括基板，以及在基板上阵列排布的多个子像素和驱动各子像素的薄膜晶体管，阵列基板包括像素电极；薄膜晶体管的沟道区包含金属氧化物半导体层，像素电极为金属氧化物半导体进行导体化形成的金属氧化物导电层，薄膜晶体管的沟道区与像素电极使用同一金属氧化物半导体层图案化后形成。在本公开实施例中，可以基于同一金属氧化物半导体层，仅通过一次图案化即可形成半导体的沟道区和导电的像素电极，减少了掩膜版图案化工序，简化了工艺步骤，降低了工艺复杂度。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权3452个，较去年同期增加了22.37%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了60.46亿元，同比增4.13%。

数据来源：天眼查APP

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