芯源微获得实用新型专利授权：“一种涂胶显影设备及晶圆加工系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示芯源微（688037）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种涂胶显影设备及晶圆加工系统”，专利申请号为CN202423028670.2，授权日为2025年9月30日。

专利摘要：本实用新型提供了一种涂胶显影设备及晶圆加工系统，其中所述涂胶显影设备与包括：涂胶显影工艺模块，用于对晶圆正面进行光刻胶涂布工艺处理，以及用于对经过光刻工艺处理后的所述晶圆进行显影工艺处理；还包括接口模块，与所述涂胶显影工艺模块连接，所述接口模块包括覆膜单元；所述覆膜单元用于在所述晶圆的背面涂覆光滑膜层；通过在所述涂胶显影设备的接口模块集成所述覆膜单元，可以实现在所述晶圆的背面涂覆光滑膜层。所述光滑膜层可有效降低光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力，可以减小光刻机承载台的磨损，进而能大大降低光刻机的维护成本。

今年以来芯源微新获得专利授权38个，较去年同期增加了35.71%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.32亿元，同比增12.87%。

通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目323次；财产线索方面有商标信息45条，专利信息617条，著作权信息92条；此外企业还拥有行政许可63个。

数据来源：天眼查APP

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