睿创微纳获得实用新型专利授权：“一种半导体器件及掩模结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示睿创微纳（688002）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种半导体器件及掩模结构”，专利申请号为CN202422627696.2，授权日为2025年9月5日。

专利摘要：本实用新型公开了一种半导体器件及掩模结构，应用于MEMS器件技术领域。本实用新型采用T形锚柱实现读出电路晶圆和MEMS器件的电连接，对应形成该T形锚柱的接触孔结构是上宽下窄的阶梯形状，该形状的接触孔结构的开口位置不存在底切结构，更容易在接触孔结构内填充导电材料，与传统的接触孔相比填充效果更好，所以形成的T形锚柱中间位置不存在空镀现象，从而能够提高导电结构稳定性与导电性，进而能够提高产品良率；同时该T形锚柱可以通过硬掩模制备得到，保证了T形锚柱的尺寸能够满足小型化要求。

今年以来睿创微纳新获得专利授权76个，较去年同期增加了484.62%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.08亿元，同比增36.95%。

通过天眼查大数据分析，烟台睿创微纳技术股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目57次；财产线索方面有商标信息150条，专利信息293条，著作权信息67条；此外企业还拥有行政许可35个。

数据来源：天眼查APP

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