拓荆科技获得实用新型专利授权：“一种双进气通道气体混合装置及半导体薄膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种双进气通道气体混合装置及半导体薄膜设备”，专利申请号为CN202422510382.4，授权日为2025年8月15日。

专利摘要：本实用新型公开了一种双进气通道气体混合装置及半导体薄膜设备。双进气通道气体混合装置包括：分气块、多个进气腔道、多个混合腔道、多个一级分气腔道和多个二级分气腔道；分气块呈盘状设置；多个进气腔道相对设置于所述分气块上层内部且用于多种气体进入；多个混合腔道相对设置于所述分气块上层内部，每一混合腔道与所有进气腔道连通；多个一级分气腔道相对设置于所述分气块下层内部，且与多个混合腔道一一对应连通；多个二级分气腔道相对设置于所述分气块下层内部，一级分气腔道至少与两个二级分气腔道连通。本实用新型的多种气体通过一次混合和两次混匀，以提高多种气体的混合均匀性，从而提高薄膜的整体性能。

今年以来拓荆科技新获得专利授权36个，较去年同期增加了80%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了7.56亿元，同比增31.26%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息706条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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