中微公司获得发明专利授权：“一种衬底处理方法及系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种衬底处理方法及系统”，专利申请号为CN202110557429.0，授权日为2025年8月8日。

专利摘要：本发明公开了一种衬底处理方法及系统，该方法包含：在衬底上形成若干个间隔件；通入沉积气体并激发成等离子体；形成聚合物沉积在间隔件表面，使相邻间隔件的距离的差值减小；通入处理气体对衬底进行刻蚀。其优点是：该方法通过通入沉积气体并激发成等离子体，进而形成聚合物沉积在间隔件的表面，根据工艺需求使相邻间隔件的距离的差值发生改变，以便后续工艺的刻蚀，提高了晶片良品率，优化了集成电路的制备流程。

今年以来中微公司新获得专利授权103个，较去年同期增加了18.39%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了14.18亿元，同比增73.59%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1535条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源：天眼查APP

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