上海新阳获得发明专利授权：“Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111245412.8，授权日为2025年7月15日。

专利摘要：本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物在Krf薄膜光刻中的应用，所述抗蚀剂组合物由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5～15份的树脂C、3～10份的光酸产生剂、2～10份的交联剂、0.5～2.5份的酸扩散抑制剂和500～2000份的溶剂；其中，所述树脂A和所述树脂C的重量份数的比例为20:3～20:1，所述树脂B和所述树脂C的重量份数的比例为1:2～2:1；所述树脂A为取代苯乙烯树脂，由结构单元组成，其中，m为1或2；R1为H、乙酰基或丙酰基；树脂A的重均分子量为4000～10000，分子量分布指数为1.2～3.0。

今年以来上海新阳新获得专利授权12个，较去年同期减少了64.71%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.2亿元，同比增48.02%。

通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业，参与招投标项目71次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息407条，著作权信息2条；此外企业还拥有行政许可104个。

数据来源：天眼查APP

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