广立微获得发明专利授权：“用于监控外延工艺对晶体管性能影响的测试结构及方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于监控外延工艺对晶体管性能影响的测试结构及方法”，专利申请号为CN202010678509.7，授权日为2025年7月11日。

专利摘要：本申请提供一种用于监控外延工艺对晶体管性能影响的测试结构及方法，该测试结构包括晶体管测试区和密度控制区；密度控制区设有多个有源区密度相同的基本单元，能通过设置不同数量比例的P型单元和N型单元，实现对测试结构中目标外延层密度的控制；晶体管测试区设有若干个目标基本单元，且通过测试线路并联每个目标基本单元中的一个晶体管，用于测量评估晶体管的性能；其中，基本单元至少包括一个晶体管，目标基本单元是指P型单元和N型单元中的其中一种类型的基本单元，且目标基本单元的晶体管采用了分子外延工艺；有源区密度是指基本单元中有源区的面积占比；目标外延层的密度是指目标基本单元的外延层在电路版图中的面积占比。

今年以来广立微新获得专利授权45个，较去年同期增加了80%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.49%。

通过天眼查大数据分析，杭州广立微电子股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目43次；财产线索方面有商标信息132条，专利信息227条，著作权信息90条；此外企业还拥有行政许可56个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。