捷佳伟创获得实用新型专利授权：“硅片双插载具、原子层沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“硅片双插载具、原子层沉积设备”，专利申请号为CN202421720779.X，授权日为2025年6月24日。

专利摘要：本实用新型提出了硅片双插载具、原子层沉积设备。其中硅片双插载具，包括两块立板，固定在立板之间的至少一组齿杆，每组齿杆包括：至少一根底杆，沿其轴线方向设有间隔均匀的多个用于支撑两片硅片的齿槽，且每个齿槽内设有从硅片的下方分离该齿槽内两片硅片的凸起；至少两根中杆，沿其轴线方向设有从硅片的两侧中部分离同一齿槽内两片硅片的多个卡齿；可活动的限位件，用于调整中杆固定在所述立板上的位置，当硅片未装载时，限位件将所述中杆固定在远离硅片的位置；当硅片装载后，所述限位件将所述中杆固定在靠近硅片的位置，使得卡齿插入至齿槽内的两片硅片之间。本实用新型可以实现双插载具同一齿槽内的两片硅片完全分离，提升镀膜均匀性。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权55个，较去年同期增加了83.33%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了6.49亿元，同比增38.94%。

通过天眼查大数据分析，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目85次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息495条，著作权信息79条；此外企业还拥有行政许可68个。

数据来源：天眼查APP

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