证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“应用于FinFET工艺中监控EPI的测试结构及方法”，专利申请号为CN201911302962.1，授权日为2025年5月30日。
专利摘要：本发明提供一种应用于FinFET工艺中，利用电性测试来有效监控EPI大小的测试结构，该测试结构包括FinFET中至少两根依次相邻的鳍(Fin)，第一根鳍和/或最后一根鳍上取两个连接点以连接到各自的焊盘；所述鳍上横跨有至少两根依次相邻的栅极(GT)，对于处于中间的每根栅极，在第一根鳍或者最后一根鳍上分别设置有连接结构，所述连接结构用于连接该鳍上被该栅极隔断的两侧，以形成蛇形线的应用于FinFET工艺中监控EPI的测试结构。
今年以来广立微新获得专利授权37个，较去年同期增加了60.87%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.49%。
数据来源：天眼查APP
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