四方光电获得实用新型专利授权：“小型光学检测气室以及激光气体传感器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“小型光学检测气室以及激光气体传感器”，专利申请号为CN202420999577.7，授权日为2025年4月15日。

专利摘要：本实用新型公开一种小型光学检测气室以及激光气体传感器，涉及气体探测技术领域，小型光学检测气室包括腔体、光学池及至少一限制插件，腔体的中间向内凹陷形成一凹部，光学池设于腔体内，包括第一反射镜、第二反射镜、光输入端和光输出端，第一反射镜和第二反射镜设于腔体两端，自光输入端射入的光束通过第一反射镜和第二反射镜多次反射后经光输出端射出；限制插件设于光学池内，且位于第一反射镜和第二反射镜之间；如此，不仅具有长光程，高精度测量待测气体，并通过限制插件限制待测气体的可流动范围，使光束与待测气体充分作用，缩短响应时间；同时，设置凹部减小腔体体积，实现小型化设计，并缩小待测气体流动范围，进一步缩短响应时间。

今年以来四方光电新获得专利授权11个，较去年同期增加了57.14%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了1.13亿元，同比增37.6%。

数据来源：天眼查APP

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