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兴福电子获得发明专利授权:“一种氧化硅高选择性蚀刻液”

来源:证券之星企业动态 2025-04-23 03:12:27
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示兴福电子(688545)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种氧化硅高选择性蚀刻液”,专利申请号为CN202211572581.7,授权日为2025年4月22日。

专利摘要:本发明提供了一种氧化硅高选择性蚀刻液,该蚀刻液按质量百分数计,包括以下成分:1?6%的氢氟酸、10?30%的氟化铵、0.01?0.1%的活性剂,余量为超纯水;其中活性剂为有机胺类化合物与含磷酸基的化合物的混合物,有机胺类化合物优选长碳链有机胺。通过活性剂的复配使用,可以更加高效地抑制金属层地蚀刻,蚀刻选择比可以高于20;同时该蚀刻液可以快速浸润到氧化硅深孔结构中,将深孔中的氧化硅蚀刻完全,满足工艺的要求。

今年以来兴福电子新获得专利授权12个。结合公司2024年年报财务数据,2024年公司在研发方面投入了7692.3万元,同比增35.52%。

数据来源:天眼查APP

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