万华化学获得发明专利授权：“一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示万华化学（600309）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用”，专利申请号为CN202111247733.1，授权日为2025年4月8日。

专利摘要：本发明涉及一种二环己基甲烷二异氰酸酯组合物及其在3D打印领域的应用，所述二环己基甲烷二胺二异氰酸酯中同时含有2,4’?二环己基甲烷二异氰酸酯(2,4’?HMDI)和4,4’?二环己基甲烷二异氰酸酯(4,4’?HMDI)；其中，所述2,4’?二环己基甲烷二异氰酸酯的含量占比为2～20wt％；所述4,4’?二环己基甲烷二异氰酸酯中的反,反’?二环己基甲烷二异氰酸酯含量为5～30％。采用本发明提供的HMDI制作的光固化组合物具备黏度低、单层固化时间更短、打印效率高、打印样品柔韧性好等优点。

今年以来万华化学新获得专利授权170个，较去年同期减少了32%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了20.81亿元，同比增16.18%。

数据来源：天眼查APP

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