捷佳伟创获得实用新型专利授权：“一种硅片双面吸附装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种硅片双面吸附装置”，专利申请号为CN202421396729.0，授权日为2025年4月4日。

专利摘要：本实用新型公开了一种硅片双面吸附装置，包括至少一个吸附机构和负压气道，每组吸附机构包括吸嘴安装板、第一吸附组件和第二吸附组件，第一吸附组件包括至少一个第一吸嘴，第二吸附组件包括至少一个第二吸嘴，全部第一吸嘴和全部第二吸嘴均安装于吸嘴安装板，全部第一吸嘴和全部第二吸嘴通过连接管道与负压气道相连接；在每个吸附机构中，全部第一吸嘴均朝向第一方向，全部第二吸嘴均朝向第二方向，并使得吸嘴安装板能够双面吸附硅片。通过采用上述的结构，使得硅片双面吸附装置能够一次吸附两片硅片，大大地提高了硅片双面吸附装置吸附硅片的效率，满足企业的生产需求，同时增强企业的社会竞争力。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权36个，较去年同期增加了89.47%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2.91亿元，同比增34.78%。

数据来源：天眼查APP

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