天赐材料获得发明专利授权：“一种阴离子和两性离子复合表面活性剂的合成方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天赐材料（002709）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种阴离子和两性离子复合表面活性剂的合成方法”，专利申请号为CN202210971113.0，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本发明属于日化材料技术领域，公开了一种阴离子和两性离子复合表面活性剂的合成方法。所述合成方法包括：将脂肪酸和氨基酸盐在100～250℃进行酰胺化反应，得到残留脂肪酸的阴离子表面活性剂，然后加入N,N?二甲基?1,3?丙二胺继续反应，得到含有脂肪酰胺丙基二甲基叔胺中间体的阴离子表面活性剂，再加入季铵化试剂进行季铵化反应或加入氧化剂进行氧化反应，得到所述阴离子和两性离子复合表面活性剂。本发明方法不仅有效的解决了脂肪酸工艺合成氨基酸阴离子表面活性剂一直存在的转化率不高，脂肪酸残留偏高的问题，同时解决了目前氨基酸表面活性剂产品低温稳定性不佳使用不便利的问题。

今年以来天赐材料新获得专利授权7个，较去年同期增加了75%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了3.06亿元，同比减5.8%。

数据来源：天眼查APP

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