兴福电子获得发明专利授权：“一种相对于叠层金属侧蚀可控的W蚀刻液及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种相对于叠层金属侧蚀可控的W蚀刻液及其制备方法”，专利申请号为CN202211669852.0，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本发明涉及一种相对于叠层金属侧蚀可控的W层蚀刻液及其制备方法。其组成包括氧化剂、助氧剂、缓冲试剂、抑制剂、表面活性剂和超纯水。该蚀刻液利用氧化剂将W被氧化形成氧化物而被蚀刻；无机酸作为次氧化剂；醋酸铵等缓冲试剂为蚀刻液提供了稳定的蚀刻环境；抑制剂可以抑制铝离子和铜离子对W蚀刻的影响；表面活性剂可以降低溶液表面张力，促进W蚀刻的均匀性和完整性。本发明提供了一种相对于叠层金属侧蚀可控的W蚀刻液及其制备方法，按照方法使用该蚀刻液不仅能有效控制叠层金属中W层被蚀刻，还可实现W的蚀刻精度高和蚀刻形貌好等优良品质，并且保证TiN和Ti层金属未被蚀刻，AlCu具有极低蚀刻速率。

今年以来兴福电子新获得专利授权9个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2824.56万元，同比减nan%。

数据来源：天眼查APP

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