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安集科技获得发明专利授权：“一种去除光刻胶残留物的清洗液”

来源：证券之星企业动态 2025-03-04 02:49:41

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示安集科技（688019）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种去除光刻胶残留物的清洗液”，专利申请号为CN201911319064.7，授权日为2025年3月4日。

专利摘要：本发明提供一种去除光刻胶残留物的清洗液，包含：季胺氢氧化物、醇胺、水、消泡剂、以及有机溶剂。本申请的清洗液加入消泡剂后既可以高效去除晶圆上的光刻胶残留物，也可以对铜、铝等金属基本无腐蚀，而且基本不会起泡，又能延长清洗液的使用寿命。在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。

今年以来安集科技新获得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.45亿元，同比增42.72%。

数据来源：天眼查APP

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