兴福电子获得发明专利授权：“一种防止侵蚀铝的缓冲氧化物蚀刻液”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种防止侵蚀铝的缓冲氧化物蚀刻液”，专利申请号为CN202211675960.9，授权日为2025年2月25日。

专利摘要：本发明提供了一种防止侵蚀铝的缓冲氧化物蚀刻液，该蚀刻液主要成分为氢氟酸、氟化铵、添加剂、有机溶剂以及超纯水。本发明的蚀刻液用于氧化层薄膜的蚀刻和清洗，并且可以防止对铝层的侵蚀。其中添加剂在改蚀刻液中具有较高的溶解度且容易分散，同时在铝膜表面能够形成稳定的保护效果；有机溶剂在HF体系中具有良好的溶解性，同时可以促进添加剂在蚀刻液中的溶解，避免低温下形成析出造成表面残留，同时一定的黏度提升可以改善铝膜表面的平整度，使表面粗糙度更低。本发明所述的蚀刻液大大提升了氧化层对铝层的蚀刻选择比，可满足PCB电路板引线构建中的蚀刻选择比要求。

今年以来兴福电子新获得专利授权6个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2824.56万元，同比减nan%。

数据来源：天眼查APP

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