源杰科技获得发明专利授权：“一种光子集成芯片结构及其制作方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示源杰科技（688498）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光子集成芯片结构及其制作方法”，专利申请号为CN202411260880.6，授权日为2025年2月14日。

专利摘要：本发明公开了一种光子集成芯片结构及其制作方法，属于半导体激光器技术领域，能够有效实现集成芯片中各分立器件之间的P\N电隔离，从而对器件进行P\N双侧射频驱动。所述光子集成芯片结构包括：衬底；缓冲层，形成在衬底上；底部导电层，形成在缓冲层上，其包括多个底部导电区，相邻两个底部导电区之间设置有底部隔离区，底部隔离区用于将相邻两个底部导电区隔离；底部隔离区与相邻的底部导电区中掺杂杂质的类型相反；核心层，其包括多个核心区，核心区与底部导电区一一对应；顶部导电层，其包括多个顶部导电区，顶部导电区与核心区一一对应，相邻两个顶部导电区之间具有顶部隔离区。本发明用于光子集成芯片中各分立器件之间的P\N电隔离。

今年以来源杰科技新获得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2205.2万元，同比增67.12%。

数据来源：天眼查APP

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