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上海新阳获得发明专利授权：“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”

来源：证券之星企业动态 2025-02-15 03:13:27

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111393432.X，授权日为2025年2月14日。

专利摘要：本发明公开了一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用。具体公开了一种如式I所示的添加剂；所述添加剂的重均分子量为1000～3000；所述添加剂的重均分子量/数均分子量比值为1～5。本发明添加剂至少具有以下优势：含该添加剂的光刻胶可以形成具有优异敏感性和高分辨率的光刻胶膜微图案。

今年以来上海新阳新获得专利授权4个，较去年同期减少了66.67%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了9709.66万元，同比增51.71%。

数据来源：天眼查APP

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