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中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、等离子处理装置及耐腐蚀涂层的形成方法”

来源：证券之星企业动态 2024-12-10 02:24:13

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、等离子处理装置及耐腐蚀涂层的形成方法”，专利申请号为CN202011507108.1，授权日为2024年12月10日。

专利摘要：一种半导体零部件、等离子处理装置及形成耐腐蚀涂层的方法，其中，半导体零部件包括：零部件本体；耐腐蚀涂层，其材料包括稀土氧化物或者稀土氟化物，位于所述零部件本体的表面，所述耐腐蚀涂层具有修饰面，所述修饰面具有原子缺陷，所述原子缺陷被填充离子修饰。所述零部件本体表面的耐腐蚀涂层中的原子缺陷较少，使耐腐蚀涂层具有较强的耐腐蚀能力。

今年以来中微公司新获得专利授权114个，较去年同期减少了21.92%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.68亿元，同比增94.58%。

数据来源：天眼查APP

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