晶盛机电获得实用新型专利授权：“一种原子层沉积设备”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶盛机电（300316）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种原子层沉积设备”，专利申请号为CN202323665432.8，授权日为2024年11月15日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种原子层沉积设备，该原子层沉积设备包括反应腔室与流量控制环；反应腔室包括第一腔室和第二腔室，第二腔室上设有定位组件，定位组件包括固定件和套设在固定件外侧的调整件；流量控制环，流量控制环固定至第二腔室，流量控制环上设置有定位孔，定位孔与定位组件相互配合，定位孔套设在调整件的外侧。本申请中在原子层沉积设备的第二腔室中设置具有一定调节范围的定位组件，同时在流量控制环上设置与定位组件配套的定位孔，通过定位组件和定位孔的相互配合，降低流量控制环与第二腔室之间的安装难度，提高流量控制环与第二腔室之间的安装精度。

今年以来晶盛机电新获得专利授权110个，较去年同期减少了30.38%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.11亿元，同比增1.92%。