证券之星消息,根据天眼查APP数据显示奥比中光(688322)新获得一项发明专利授权,专利名为“光斑位置自适应搜索方法、时间飞行测距系统及测距方法”,专利申请号为CN202110227556.4,授权日为2024年8月23日。
专利摘要:本发明公开了一种光斑位置自适应搜索方法、时间飞行测距系统及测距方法,包括步骤:S1、标定初始测距系统物方空间上光斑的空间模板分布以及光斑的空间发射角度因子;S2、求取测距系统发生冲击变形后偏移光斑在采集器像素单元上的坐标,并获取偏移光斑的编号;S3、根据所述偏移光斑在采集器像素单元上的坐标以及所述编号,对发生冲击变形后的测距系统进行标定,得到新的空间发射角度因子,以完成光斑位置的自适应搜索。本发明通过光斑位置搜索,获取准确的光斑发射角度因子与成像位置,使得系统不受热冲击、力冲击等冲击变形的影响,从而以提高测距的精确度。
今年以来奥比中光新获得专利授权78个,较去年同期减少了27.78%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1.06亿元,同比减37.03%。
数据来源:天眼查APP
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