证券之星消息,根据天眼查APP数据显示光华科技(002741)新获得一项发明专利授权,专利名为“用于抑制铜面化学镀渗镀的预浸液及其制备方法和应用”,专利申请号为CN202111004311.1,授权日为2024年8月20日。
专利摘要:本发明涉及一种用于抑制铜面化学镀渗镀的预浸液及其制备方法和应用。每升所述预浸液包括水,5g~100g的酸性试剂,及0.05g~5g的预浸添加剂;所述酸性试剂为硫酸和/或盐酸;所述预浸添加剂为含氮芳杂环类化合物、脂肪族含氮羧酸类化合物、含硫脂肪酸类化合物、有机胺类化合物中的至少一种。该预浸液能够屏蔽掉施镀面边缘的一价铜离子,从而防止一价铜离子发生歧化反应在施镀面边缘及基材位置生长出铜单质,进而减少活化液中钯离子在施镀面边缘及基材位置与铜的置换反应导致的渗镀问题,或因镍槽活性太强导致的渗镀问题,最终起到降低因渗镀问题导致线路板良品率下降的问题,具有广泛的应用前景。
今年以来光华科技新获得专利授权8个,较去年同期增加了60%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了1.34亿元,同比减8.99%。
数据来源:天眼查APP
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