天合光能获得实用新型专利授权：“一种电镀装置及硅片电镀系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种电镀装置及硅片电镀系统”，专利申请号为CN202322870216.0，授权日为2024年8月13日。

专利摘要：本实用新型属于电镀设备技术领域，具体涉及一种电镀装置及硅片电镀系统，本电镀装置包括：物料转移机构和电镀机构；其中所述物料转移机构适于吸附物料送入电镀机构内；所述电镀机构适于吸住物料并转移至电镀槽内，所述电镀机构适于向物料施加电镀电流；本实用新型通过物料转移机构实现自动上料及下料，同时通过电镀机构实现对物料智能化电镀，并且在整个上料、下料过程中无需人工介入，一方面能够提高生产效率，另一方面能够克服生产过程中因手动操作造成的硅片损伤、污染等不良问题。

今年以来天合光能新获得专利授权288个，较去年同期增加了174.29%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了15.43亿元，同比增26.42%。

数据来源：天眼查APP

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