德赛西威获得发明专利授权：“一种双屏真空贴合腔的结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示德赛西威（002920）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种双屏真空贴合腔的结构”，专利申请号为CN202010966886.0，授权日为2024年8月2日。

专利摘要：本发明涉及一种双屏真空贴合腔的结构，包括向下开口的上腔体，下腔体，上腔体的左部设有上贴合平台，上贴合平台设有上吸紧机构，用于吸附第一贴件，上腔体的右部设有避空装置。下腔体的左部设有下贴合平台，下贴合平台设有下吸紧机构，用于吸附第二贴件，下腔体的右部设有可调节辅助装置，用于固定贴合产品位置及提高贴合区的贴合质量，上腔体与下腔体合拢后形成密封空间，下贴合平台的下侧设有升降机构，用于下贴合平台与上贴合平台压合。辅助装置包括支架，设置于支架中部的可调节的滚轮装置，设置于支架右部的可调节的L型块装置。本方案适用于平面、V型和Z型等类型的所有双屏真空贴合，同时也能够满足单屏贴合使用。

今年以来德赛西威新获得专利授权79个，较去年同期减少了8.14%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了19.82亿元，同比增22.93%。

数据来源：企查查

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