双星新材获得实用新型专利授权：“一种抗静电光学保护膜”

证券之星消息，根据企查查数据显示双星新材（002585）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种抗静电光学保护膜”，专利申请号为CN202323297089.6，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本申请公开了一种抗静电光学保护膜，至少包括聚酯基材层以及用于与光学薄膜粘接的可导电的胶黏剂层；所述聚酯基材层和胶黏剂层之间形成有一层导电层；所述聚酯基材层的厚度为20?250μm，所述胶黏剂层的厚度为5?15μm，所述导电层的厚度为0.1?1μm。本申请的聚酯基材层和胶黏剂层可以均含有抗静电剂，在聚酯基材层含有抗静电剂的情况下，保护膜剥离时的静电可以通过胶黏剂层导出给聚酯基材层，因而不会有静电残留的问题。由于导电层是由金属导电材料形成的一层致密的导电结构，其电阻率远小于聚酯基材层和胶黏剂层，因而即便聚酯基材层和胶黏剂层的导电性存在不均匀，局部聚集的静电也很容易被导电层导走，因而可以解决抗静电剂分散均匀性的缺陷。

今年以来双星新材新获得专利授权27个，较去年同期减少了35.71%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了2.28亿元，同比减9.8%。

数据来源：企查查

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