风华高科获得发明专利授权：“一种片式电阻二次保护浆料及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示风华高科（000636）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种片式电阻二次保护浆料及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202310485531.3，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本发明公开了一种片式电阻二次保护浆料及其制备方法和应用，属于高分子材料技术领域。片式电阻二次保护浆料按重量份数计，包括以下组分：树脂15～30份；增稠剂0.05～2份；有机溶剂10～20份；固化剂0.3～0.7份；固化促进剂0.2～0.5份；绝缘炭黑3～5份；填料45～60份；分散剂0.1～2份；填料为二氧化硅、氧化铝或氧化锌中的一种或几种；填料的D50粒径为250nm～3μm；填料的表面键合烷基或环氧基团。本发明的片式电阻二次保护浆料具有优良的印刷性能，用于片式电阻的保护膜时具有超高的绝缘阻抗、极低的渗水率、优异的耐酸碱性能，适用于高电压、高湿度和酸碱环境下使用，为片式电阻提供可靠的二次保护。

今年以来风华高科新获得专利授权31个，较去年同期增加了6.9%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.93亿元，同比减14.3%。

数据来源：企查查

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