新光光电获得实用新型专利授权：“一种大面阵高分辨率的拼接式DMD中波成像模拟系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示新光光电（688011）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种大面阵高分辨率的拼接式DMD中波成像模拟系统”，专利申请号为CN202321298981.3，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本实用新型涉及红外成像领域，具体涉及为一种大面阵高分辨率的拼接式DMD中波成像模拟系统，对被测设备系统的动态、静态、识别跟踪性能进行评估、测试和半实物仿真。本实用新型采用内合束的方式，以高温黑体提供目标模拟辐射、低温黑体提供背景模拟辐射，采用单片分辨率为1920×1080的DMD芯片作为成像器件，采用科勒照明结构进行系统照明，采用双DMD拼接形式实现成像分辨率达2K×2K，可实现单像素成像，且无明显冷反射现象。解决了当前以DMD为成像器件的仿真模拟系统分辨率较低的问题。

今年以来新光光电新获得专利授权5个，较去年同期减少了50%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4204.27万元，同比增17.37%。

数据来源：企查查

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