横店东磁获得发明专利授权：“一种PERC电池背场激光开槽图形”

证券之星消息，根据企查查数据显示横店东磁（002056）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种PERC电池背场激光开槽图形”，专利申请号为CN201810725876.0，授权日为2024年6月14日。

专利摘要：PERC电池背场激光开槽图形，单硅晶片上设有背电极、直线开槽区、线段开槽区。在每个线段开槽区内，每个头尾相邻的两个线段开槽区间间均设有一个间隔区。线段开槽区和间隔区设在相应的相邻两个的直线开槽区之间的区域内，或者设在最边上的一个直线开槽区与相应的单硅晶片边缘之间。若干背电极均分成若干背电极组，同一个背电极组中两个相邻背电极间的前后间距相等，相邻两个背电极组件间的相邻两个背电极的左右间距相等。优点是：具有既能够有效的保留更多面积的钝化膜区域，减少对背钝化层的破坏作用，同时，又能够改善因线段开槽所带来铝硅接触电阻大的问题，从而提高太阳电池片开路电压、短路电流，进而最终提升太阳电池片的转换效率。

今年以来横店东磁新获得专利授权49个，较去年同期减少了53.33%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.77亿元，同比减6.64%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。